| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | marte3.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZ3r59YCT/H3LjS |
| Repositório | sid.inpe.br/iris@1905/2005/08.04.03.10.54 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2006:01.26.15.48.00 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/iris@1905/2005/08.04.03.11 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.06.03.55.45 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-13389-PRE/8604 |
| ISSN | 0257-8972 |
| Rótulo | 10529 |
| Chave de Citação | BelotoUASSKRSP:2002:SpCoPo |
| Título | Sponge-like and columnar porous silicon implanted with nitrogen by plasma immersion ion implantation (PIII)  |
| Ano | 2002 |
| Data Secundária | 20020612 |
| Mês | July |
| Data de Acesso | 03 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 411 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Beloto, Antonio Fernando 2 Ueda, Mario 3 Abramof, Eduardo 4 Senna, José Roberto 5 Silva, M. D. 6 Kuranaga, C. 7 Reuther, H. 8 Silva, A. F. 9 Pepe, I. |
| Grupo | 1 LAS-INPE-MCT-BR 2 LAP-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
| Revista | Surface and Coatings Technology |
| Volume | 156 |
| Número | 1-3 |
| Páginas | 267-271 |
| Histórico (UTC) | 2005-08-04 03:11:07 :: administrator -> jefferson :: 2006-01-26 15:48:32 :: jefferson -> administrator :: 2018-06-06 03:55:45 :: administrator -> marciana :: 2002 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | FISICA E TECNOLOGIA DE MATERIAIS silicon plasma immersion ion implantation (PIII) reflectance solar-cells emitter |
| Resumo | ponge-like and columnar porous silicon (PS)were prepared from p- and n-type (100)monocrystalline silicon wafers using different anodization conditions (hydrofluoric acid concentration, current density and anodization time)and then implanted with nitrogen by plasma immersion ion implantation (PIII). The effect of the implantation and of the compounds formed was analyzed by measuring the reflectance of the implanted samples for wavelengths between 220 and 800 nm. A reduction in reflectance in the ultraviolet (UV)region of the spectrum was observed for polished Si samples and for all kinds of PS samples. Increased UV-induced photoluminescence in these samples caused by the increase in absorption in the UV region is expected. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Sponge-like and columnar... |
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Sponge-like and columnar... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Arquivo Alvo | beloto.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator jefferson |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn language lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |