| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | marte3.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZ3r59YCT/H3Lni |
| Repositório | sid.inpe.br/iris@1905/2005/08.04.03.13 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2007:11.19.16.36.12 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/iris@1905/2005/08.04.03.13.18 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.06.03.55.45 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-14925-PRE/9838 |
| ISSN | 0963-0252 1361-6595 |
| Rótulo | 10531 |
| Chave de Citação | TanUDRBAIT:2002:MaPlIm |
| Título | Magnesium plasma immersion ion implantation in a large straight magnetic duct  |
| Ano | 2002 |
| Data Secundária | 20021212 |
| Mês | Aug. |
| Data de Acesso | 03 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 201 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Tan, I. H. 2 Ueda, Mario 3 Dallaqua, Renato Sergio 4 Rossi, J. O. 5 Beloto, Antonio Fernando 6 Abramof, Eduardo 7 Inoue, Y. 8 Takai, O. |
| Grupo | 1 LAP-INPE-MCT-BR 2 LAS-INPE-MCT-BR |
| Revista | Plasma Sources Science and Technology |
| Volume | 11 |
| Número | 3 |
| Páginas | 317-323 |
| Histórico (UTC) | 2006-11-14 18:52:47 :: administrator -> jefferson :: 2007-11-19 16:36:13 :: jefferson -> administrator :: 2018-06-06 03:55:45 :: administrator -> marciana :: 2002 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | FISICA E TECNOLOGIA DE MATERIAIS SURFACE MODIFICATION CENTRIFUGE |
| Resumo | Magnesium ions were implanted on silicon wafers using a vacuum arc plasma system with a straight 1m long magnetic duct, 0.22 m in diameter. Good macroparticle filtering was obtained in samples positioned facing the plasma stream and complete filtering was achieved in samples with surfaces parallel to the plasma stream and magnetic field. Deposition is also minimized by placing sample surfaces parallel to the plasma stream. High resolution x-ray diffraction rocking curves of impianted samples show that the changes in lattice constant are due to compressive strain. and the distortion is larger for higher voltages. Without magnetic field the implantation was a few hundred angstroms deep, as expected, but with magnetic field the depth profile was surprisingly extended to over 0.1 mum, a fact for which we do not yet have a convincing explanation, but could be related to radiation enhanced segregation. The presence of a magnetic field increases substantially the retained implantation dose due to the increase in plasma density by two orders of magnitude. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Magnesium plasma immersion... |
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Magnesium plasma immersion... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Arquivo Alvo | magnesium plasma immersion ion, tan.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator jefferson |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft12 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | affiliation alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn language lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |